春大豆苗期低溫脅迫下葉綠素?zé)晒忭憫?yīng)

作者:田鑫; 鐘程; 李性苑 凱里學(xué)院大健康學(xué)院; 貴州凱里556011

摘要:[目的]探討春大豆與低溫脅迫有關(guān)的光合參數(shù)以及種質(zhì)與低溫之間的相關(guān)性。[方法]以5個(gè)春大豆品種的幼苗為試驗(yàn)材料,用葉綠素?zé)晒鉁y(cè)定儀測(cè)定低溫脅迫后的葉綠素含量。[結(jié)果]5個(gè)春大豆品種的Fv(樣品可變熒光)/Fm(樣品最大熒光產(chǎn)量)和qP(光化學(xué)淬滅系數(shù))均顯著降低;與室溫對(duì)照相比,F 0(初始熒光)和qN(非光學(xué)淬滅系數(shù))在低溫脅迫下顯著增加。與其他品種相比,骨粒青的F o和qN均顯著增大而Fv/Fm顯著降低,qP下降但仍處于高水平。43號(hào)的F o增加最少。95-1的Fv/Fm最高,但qP最低。南農(nóng)513的qN增加最少,屬于低溫敏感型材料。光氧化(qN)是引起南農(nóng)513損傷的主要原因,而qP和qN反映出骨粒青能在低溫下繼續(xù)光合作用進(jìn)行生長(zhǎng),以減少光氧化帶來的損傷。[結(jié)論]qP和qN是用來評(píng)估大豆的低溫抗性指標(biāo)的較可靠的光合參數(shù)。

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