高氮奧氏體不銹鋼的臨界點(diǎn)蝕溫度及Cl^-濃度對(duì)其的影響

作者:郭一二; 梁平; 遲嘉鵬; 逄旭光; 史艷華; 秦華; 李飛 遼寧石油化工大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院; 撫順113001; 中國(guó)石油撫順石化公司石油三廠; 撫順113007

摘要:為了測(cè)定高氮奧氏體不銹鋼(HNS)在3.5%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)) NaCl溶液中的臨界點(diǎn)蝕溫度(CPT),采用電化學(xué)阻抗和動(dòng)電位極化曲線方法測(cè)量出了HNS在NaCl溶液中CPT的大致范圍,再通過(guò)恒電位極化法確定了CPT的具體值,同時(shí)考察了Cl-濃度對(duì)CPT的影響,通過(guò)金相顯微鏡進(jìn)一步驗(yàn)證了CPT的準(zhǔn)確性。結(jié)果表明:在70-75℃范圍內(nèi),電化學(xué)阻抗容抗弧明顯減小,電荷轉(zhuǎn)移電阻Rct大幅度降低。動(dòng)電位極化曲線表明,在70-75℃擊破電位出現(xiàn)明顯降低,恒電位極化方法確定HNS的CPT為71.2℃。同時(shí),當(dāng)NaCl溶液濃度從3.5%增加到20%時(shí),其CPT由71.2℃下降至66.5℃。

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