強(qiáng)光光學(xué)零件磁流變拋光誤差的頻譜特征與演變研究

作者:王貴林; 李完小; 向紀(jì)邦 湖南航天環(huán)宇通信科技股份有限公司; 長沙410205

摘要:通過分析磁流變拋光的材料去除特征、誤差功率譜密度的定量計(jì)算方法、敏感頻率誤差的演變規(guī)律,探索誤差頻譜與去除函數(shù)、走刀方式、走刀步距等加工參數(shù)的對(duì)應(yīng)關(guān)系,為工藝過程的合理控制提供指導(dǎo)。典型強(qiáng)光光學(xué)零件磁流變拋光的實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,通過優(yōu)化工藝參數(shù),能夠大幅修正低頻誤差、控制中高頻誤差,保證0.03~8.3mm-1頻段誤差全部滿足NIF評(píng)價(jià)指標(biāo)要求。

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