PI/NiO/g-C3N4復(fù)合光催化劑的制備及其對甲基橙的光催化降解

作者:朱世偵; 王清; 毛潔; 周婭芬 西華師范大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院; 四川南充637009; 西華師范大學(xué)化學(xué)合成與污染控制四川省重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 四川南充637009

摘要:合成了復(fù)合光催化劑PI/NiO/g-C3N4,并進(jìn)行了掃描電鏡(SEM)、x射線衍射(XRD)和傅里葉變換紅外光譜(FT-IR)等表征。通過在紫外-可見光下降解甲基橙染料,研究了其光催化活性及反應(yīng)機(jī)理。在染料濃度為20mg/L、催化劑用量為1g/L、光照時(shí)間15min時(shí),15%PI/NiO/g-C3N4光催化劑對甲基橙染料的降解率達(dá)到97.6%。循環(huán)實(shí)驗(yàn)表明,經(jīng)過3次循環(huán)后,降解率略有下降,說明復(fù)合光催化劑具有較高的光催化穩(wěn)定性。自由基捕獲實(shí)驗(yàn)表明,光催化降解過程中主要的活性物種為超氧陰離子自由基(·O2-1),同時(shí)羥基自由基(·OH)和光生空穴(h+)也參與了光催化活動。

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西華師范大學(xué)學(xué)報(bào)·哲學(xué)社會科學(xué)版

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